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地址:上海市闵行区古美路1471号华城广场307室
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首页>>产品展示>>>等离子发光分析终点检测仪 EV-140C
 
 
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产品型号:
EV-140C
产品名称:
等离子发光分析终点检测仪 EV-140C
产品报价:
产品特点:
这是一套分析放射性发光的终点监测设备,专为以等离子技术为基础的半导体薄膜制程进行终点检定或等离子条件的监控而研制。Z新的数学模型技术赋予它通过捕获微弱信号的变化进行终点检定的能力。在放射性发光中捕获微弱变化的能力显著地提高了灵敏度。对于抗干扰性的改善确保了本设备在复杂环境下持续不停的生产线上获得高稳定的运行。
  EV-140C等离子发光分析终点检测仪 EV-140C的详细资料:

 

特征
  • 布赖特光栅
布赖特光学系统是通过HORIBA Jobin Yvon制造的一个巨大的,直径为70 mm的偏差纠正凹面光栅而实现的。凹面光栅本身的聚光能力使其具有 比短焦距车尔尼特纳型光谱仪更为明亮的一套简易光学系统架构,并且可以zui小化因为镜面及其他反射面造成的反射损失。
  • 背光式CCD传感器可以提供高灵敏度和高分辨度的2048个光学通道。
背光式CCD可以达到高量子效率,确保从紫外光到可见光之间的宽波段范围内获得稳定的分光镜使用。高灵敏度的测量在紫外光波段,特别是在那些较少受到干扰影响的波长范围,使终点监测成为可能。
  • 专为先进制程控制而准备的Sigma-P软件
应制程控制的要求,此软件可以执行多种工序,从等离子体现象分析到测量数据的数据库创建和生产设备的远程遥控。测量工序的可编程架构设计使其可以对多重监测和时序处理进行设定。它赋予检测器不仅可以被用于终点监测,同时也可以被广泛的用于等离子体环境下的监测。
 
  • 这是一种对于等离子体异常情况进行报警的先进设计,也可以通过利用2种波长之间的变换系数来指导终点测量。
  • 全回收功能
一旦收集到光谱学的数据后,对制程优化或者终点监测的模拟可以通过应用新的制程设计反复进行。

 
  • 一个用于识别等离子中发光类别的数据库已经包含在内
  • 光谱学数据可以转换成一个时距记录曲线图,或者可以通过屏幕格式,把操作波形,比对参考数据获得的相对计算波形和其他信息显示出来。
  • 专为时间记录图分析而准备的自动图形软件
从巨大并伴随干扰的光谱数据中发现细微的图形差异是一个艰巨的挑战。自动图形软件将自动地找到图形变化的特征并测定zui为合适的终点波长。
  • 强大的终点数学模型。
  • 通过使用客户指定波长范围的计算波形和过滤系统,终点可以被准确的发现。在接近2个指定区域的2条直线的交叉点,zui新发展的数学模型赋予机台稳定的监测细微变化的性能。此功能确保各点的变化准确地从干扰中被区分出来,正如终点在微小开放区域内的细号变化,都能被准确的监测。
  • 超出微小开放区域(<0.2%)的蚀刻监测。
当频率率波器将干扰信号从原始信号中过滤掉后,不同信号(粉色线)在图形中的比率(黑色线)变化(上升(A+B+C)/减小(D+E+F))可以使我们准确监测到终点的位置。
  • 制程设计,一种伴随分析结果同步自动完成的制程生成软件(选择项软件)
  • 制程设计是自动图形分析工具的一种衍生版本。它赋予使用者通过在显示器上实时的分析和模拟,生成zui佳的数学模型。这种数学模型可以很容易地被构建到真实的制程里。对于那些微弱和复杂的发光类别型的终点监测, 或者因制程条件的变化而不能被发现的终点监测,或者类似情况,这种设计可以使制程研制的负担大大减轻。
  • *步:自动分离出波长变化的图形;
  • 第二步:使用接近的2条直线,鉴定出变化点;
  • 第三步:通过完整的数学模型进行的EDP模拟管理可以被输出和构建到Sigma-P中;先进的统计处理:反馈给制程。
  • 统计处理编辑可以从大量不同的视图中分析日志数据,帮助提高异常分析和缺陷率。分析的结果可以被反馈到测量当中。

产品相关关键字: 半导体 等离子发光分析 放射性 半导体制程
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